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该课题组还采用NDI-N修饰其他高效率的活性层，搜索搜话省份包括PBDB-T:ITIC,DRTB-T:IDIC和PBDB-T:IT-M，搜索搜话省份所有器件的PCE均与文献报道的最高值相当，说明NDI-N是一种普适性的阴极界面层材料。在以往的研究报道中，大数大热东成具有高结晶度的小分子材料在成膜过程中很容易形成大尺寸的聚集，从而在薄膜表面产生缺陷，损害器件的光电子性能。

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X射线衍射分析显示 NDI-N的分子间π-π堆积距离为3.3Å，年味这是萘酰亚胺类材料最紧密的分子堆积方式之一，对电子传输十分有利。近五年内，最浓发展了多种有效调制有机光伏材料特性的方法，提出并深入发展了二维共轭BDT类聚合物光伏材料体系，制备了多种高效聚合物光伏材料。

为了考察NDI-N作为阴极界面层对器件性能的影响，百度该课题组还制备了单层器件。

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